プリンタブルエレクトロニクス2012に出展致します。 是非弊社ブースへお立ち寄り下さい。   名　　称：Printable Electronics2012 会　　期：2012年2月15日(水)～17日(金) 開催時間：10：00～17：00 会　　場：東京ビッグサイト東3・4・5・6ホールおよび会議棟   出展ゾーン：東3ホール　小間番号：K-38   招待券をご希望の方は弊社営業グループ sales@m-technique.co.jpへお申し付け下さい。 招待券を送付致します。   出展のみどころ ● ULREA SS-11 連続反応・晶析装置。本装置を用いて金属、合金、酸化物、複合酸化物、顔料などの微粒子を作製できます。 粒子径についても、シングルナノからマイクロサイズまでコントロール可能です。

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粉体工業展大阪2011は終了いたしました。
会期中は多くの方にご来場いただきありがとうございました。
今後ともエム・テクニック㈱をよろしくお願いします。

粉体工業展大阪2011に出展致します。

是非弊社ブースへお立ち寄り下さい。

名　　称　：　粉体工業展大阪2011

会　　期　：　2011年10月19日（水）～21日（金）

開催時間　：　9：00～17：30 （19日（水）は9：30 ～ 17：30）

会　　場　：　インテックス大阪（南港）　1・2号館

出展ゾーン：２号館　小間番号：2-34

招待券をご希望の方は弊社営業グループ sales@m-technique.co.jp へ

お申し付け下さい。招待券をお送りさせて頂きます。

出展製品

●ULREA　SS-11

連続反応・晶析装置。 本装置を用いて金属、合金、酸化物、複合酸化物、有機顔料、難水溶性薬物などのナノ粒子を作製できます。

粒子径についても、シングルナノからマイクロメートルサイズまで粒子径を制御できます。

● クレアミックス シングルモーション

精密分散・乳化機。 均一な分散・乳化、粒子径コントロールが可能です。

● クレアミックス ダブルモーション

超精密分散・乳化機。 ナノレベルの均一な分散・乳化、粒子径コントロールが可能です。

国際粉体工業展東京2010は終了いたしました。
会期中は多くの方にご来場いただきありがとうございました。
今後ともエム・テクニック㈱をよろしくお願いします。

国際粉体工業展東京2010に出展致します。

是非弊社ブースへお立ち寄り下さい。

同展におきまして、製品技術説明会も行ないますので、

合わせてご来場賜りますようお願い申し上げます。

名　　称　：　国際粉体工業展東京2010

会　　期　：　2010年12月1日（水）～12月3日（金）

開催時間　：　10：00～17：00

会　　場　：　東京ビッグサイト　東1・2・3ホールおよび会議棟

出展ゾーン：東1ホール　　小間番号：Ｃ－０８

製品技術説明会：東3ホール　Ｃルーム

12月2日（木）11：00～11：30

12月3日（金）11：45～12：15

招待券をご希望の方は弊社営業グループ sales@m-technique.co.jp へ お申し付け下さい。

招待券をお送りさせて頂きます。

出展の見どころ

●ULREA　SS-11 　　

・連続反応・晶析装置として、全く新しい原理の強制薄膜式リアクター

　 ULREA SS-11を開発し、ビルドアップ法による微粒子合成技術を 確立しました。

・従来のStatic型マイクロリアクターの問題点であった流路閉塞、圧力損失を解決しました。

・1～30μｍの強制薄膜マイクロ流路において、 分子拡散・晶析することで金属、酸化物、顔料

　難水溶性薬物の ナノ微粒化製剤などのナノ微粒子を連続的に製造可能です。

・従来のブレークダウン法を用いた粉砕による製造法に比べ

　装置由来のコンタミネーションの問題がありません。

・ディスク径を大きくすることで容易にスケールアップが可能です。

・製造に必要なエネルギーコストを下げ、ランニングコストを削減可能です。

・CIP/SIPが可能です。

・晶析、有機反応、無機反応、微粒子生成、生化学等全ての反応に応用できます。

その他出展製品・技術カテゴリー

ナノ粒子混合・分散技術

● クレアミックス シングルモーション

　　精密分散・乳化機。

　　均一な分散・乳化、粒子径コントロールが可能です。

● クレアミックス ダブルモーション

　　 超精密分散・乳化機。

　　 ナノレベルの均一な分散・乳化、粒子径コントロールが可能です。

NANO KOREA 2010に出展します。

名称：NANO KOREA 2010

会期：2010年8月18日(水)～8月20日(金)

会場：KINTEX(Korea International Exhibition Center)

出展ゾーン：D23

出展製品：ULREA、CLEARMIX

インターフェックスジャパン
医薬品 化粧品 洗剤　研究開発・製造技術国際展に出展します。

名　　称　：　第２３回インターフェックス ジャパン
会　　期　：　２０１０年６月３０日（水）～７月２日（金）
開場時間　：　１０：００～１８：００（最終日は１７：００まで）
会　　場　：　東京ビッグサイト　東１～６ホール、西１～２ホール
　出展ゾーン：　東1ホール　　　小間番号　：　１８－４

ぜひお立ち寄りください。
当日はご招待券が必要となりますので、ご希望の方は弊社営業グループ
またはホームページのカタログ請求からお申し付けください。
ご連絡頂ければ送付いたします。
営業グループ　ＴＥＬ０７２５-５４-００９６／ＦＡＸ０７２５－５３－３３３２
(*インターフェックスジャパン主催者ホームページhttp://www.interphex.jp/jp/からでも、 招待券は無料でお申し込み頂けます。）

出展の見どころ
究極のリアクター　＜ＵＬＲＥＡ　ＳＳ－１１＞
新発想の強制薄膜式マイクロリアクターULREA SS-11は従来のStatic型マイクロリアクターの
問題点であった、流路閉塞、圧力損失を解決、C・SIPも可能です。
1～30μmの超薄膜マイクロ流路中において強制的に拡散させることで、

難水溶性薬物の20～100nmのナノ微粒子化製剤の製造が可能です。
晶析、有機反応、無機反応、微粒子生成、生化学等の全ての反応に応用が可能です。
その為、新薬開発（溶解性、膜透過性、吸収性、ＢＡ）の改善と加速化が計れます。

その他出展製品・技術カテゴリー
ナノ粒子混合・分散・粉砕技術
１．ＣＬＭ－０．８Ｓ、ＣＬＭ－２．２Ｓ シングルモーション
精密分散・乳化機。均一な分散・乳化、粒子径コントロールが可能です。
２．ＣＬＭ－２．２／３．７Ｗ　ダブルモーション
超精密分散・乳化機。ナノレベルの均一な分散・乳化、粒子径コントロールが可能です。

その他応用分野
・材料・素材 　　機能性ハイブリッド材料、耐熱性材料、コーティング材料

　塗料／インキ、その他材料・素材
・自動車　次世代二次電池自動車 - 燃料電池 燃料添加物 軽量化材料

　塗装 センサー　ディスプレイ 　　　　
排出ガス浄化 その他自動車関連製品

nano tech 2010は 終了いたしました。
今後ともエム・テクニック㈱を宜しくお願いします

2010年２月17日～19日
国際ナノテクノロジー総合展・技術会議に出展します。

出展製品・技術
アルリア　SS-11
出展の見どころ
新発想の強制薄膜式マイクロリアクターULREA SS-11は、
従来のStatic型マイクロリアクターの問題点であった、流路閉塞、圧力損失を
解決しました（C-SIPも可能）。
1～30μmの超薄膜マイクロ流路を積極的に攪拌し強制攪拌させることで、
数nm～20nmの金属、酸化物及び20～100nmのナノ微粒子製剤の製造が可能です。
従来のブレークダウン法を用いた粉砕法に比べ、装置由来のコンタミネーションの
問題もありません。
真球状の粒子形状が作成でき、粒子の安定性、再分散性に優れています。
またスケールアップが容易で、大量生産にも向いております。
環境に関する 製品・技術
新発想の強制薄膜式マイクロリアクターULREA SS-11は、
従来のビーズミル等を用いた粉砕による製造法に比べ、
製造に必要なエネルギーコストを大幅に下げることができ、
さらにランニングコストの削減が可能です。
出展製品・技術 カテゴリー
ナノ加工技術 / 装置 ナノ粒子混合・分散・粉砕技術

その他 その他 -
応用分野
・材料・素材
機能性ハイブリッド材料 耐熱性材料 コーティング材料
塗料／インキ めっき 樹脂 その他材料・素材
・バイオテクノロジー
再生医療 ドラッグデザイン DDS
・自動車
次世代二次電池 自動車 - 燃料電池 燃料添加物 軽量化材料 塗装 センサー

ディスプレイ 排出ガス浄化 その他自動車関連製品
・環境・エネルギー
環境・エネルギー - 燃料電池 太陽電池 二次電池 光触媒 ナノ構造触媒
・その他
化粧品分野 医療分野 食品・農業分野

http://www.nanotechexpo.jp/

２００９年１月６日

ＨＰリニューアルいたしました。
今後ともエム・テクニック株式会社をよろしくお願いします。

nano tech 2009は 終了いたしました。
今後ともエム・テクニック㈱を宜しくお願いします

２００９年２月１８日～２０日
国際ナノテクノロジー総合展・技術会議に出展します。

出展の見どころ
1. 精密分散・乳化機（CLM-0.8S、CLM-2.2/3.7W）
　 均一分散・乳化、粒径コントロールが可能です。
2. 超精密分散・粉砕機（CLEAR SS5-100)
　 ナノレベルの均一分散・粉砕が1パスで可能です。コンタミの発生もありません。
出展製品・技術
クレアミックス CLM-0.8S
クレアミックス CLM-2.2/3.7W　
クレア SS5-100

会場：東京ビッグサイト
小間番号：東５ホール　Ｃ－３０
出展カテゴリー：超微細加工技術
ナノ粒子混合・分散・粉砕技術

http://www.nanotechexpo.jp/

http://www.semiconjapan.jp/booth-search/j/

ＳＵＲＴＥＣＨ　２００７

終了しました。ご多数のご来場ありがとうございました。
今後ともエム・テクニックを宜しくお願いします。

会期：２００７年９月５日（水）～９月７日（金）
会場：幕張メッセ　展示ホール７
出展品：クレアミックス分散機
高速回転型・乳化分散機の主力ラボ製品を出展しております。
多数のご来場をお待ちしております。

慰安旅行に行きました！

　2007年1月26日の南港発→別府行きのフェリーにて移動し1月27日は、熊本市内にてボーリング大会をしました。
その後、阿蘇市白雲山荘さんで宿泊、宴会をしました。
白雲山荘様をはじめ、みなさまには大変お世話になりました。
ありがとうございました。
1月28日は、当社阿蘇工場建設地へ見学に行き、湯布院散策、高崎山のお猿さんを見学し別府発→南港行きのフェリーにて戻って参りました。

	これからも従業員一同、力を合わせてよりよい物作りを行っていきたいと一致団結しました。 みなさま、今後とも宜しくお願い申し上げます。

「和泉市50周年記念にタイムカプセル寄贈」

当社の本社所在地大阪府和泉市は50周年を迎えました。

夢レター事業にて、和泉市内の小学校及び横山高校のみなさんが、

20年後の自分へ手紙を書き、当社が寄贈したタイムカプセルへ投入し

埋設式が行われました。